TSMCの半導体 2nmプロセス 機密情報 流出 疑惑で東京エレクトロンが9月に協議か

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TSMCの半導体 2nmプロセス 機密情報 流出 疑惑で東京エレクトロンが9月に協議か

TSMC(台積電)の2nmプロセス 技術情報が流出したとされる件で、台湾当局はエンジニア3名を拘束。捜査は国家安全関連法に基づく重罪相当の枠組みで進み、検察総長は「証拠が固まれば加速審理」と発言しました。

一方、東京エレクトロン(TEL)は台湾子会社の関係者を解雇し、2025年9月初旬の半導体見本市に合わせ社長が来台しTSMCと協議するとの報道があります。

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取引関係・損害賠償を巡る観測

現地報道では、TSMCが司法側の証拠収集の進展を踏まえ、東京エレクトロンに対する損害賠償を検討する可能性が取り沙汰されています。東京エレクトロン社長は、9月初旬の半導体見本市に合わせ訪台を検討しているとしており両社の関係維持と同時に、再発防止や責任範囲の線引きを協議する場になるとの見方が優勢です。

司法・行政の見立てと量刑レンジ

台湾・最高検察署の邢泰釗検察総長は「偵査不公開」を前置きしつつ、証拠が明確なら加速審理を要請する考えを表明。

該当する場合、国家的な革新技術に関する営業秘密の不正取得・漏えいは5年以上12年以下の懲役(罰金併科)となる可能性があります。迅速な起訴・審理の見通しも示唆されました。





なぜ2nmは重要なのか

2nmは資本・人材・装置の総力戦で、わずかな条件・レシピ情報でも歩留まり向上や開発短縮に寄与し得ます。

先端ノードは分業・モジュール化が進むため単一断片で完全再現は困難とされますが、良率調整のパラメータ工程統合の“勘所”は競争力に直結します。よって、漏えいの実効性評価と対外説明は投資家・顧客・規制当局の三正面で重要です。





サプライチェーンとガバナンス:装置ベンダ側の要諦

今回のケースは、装置ベンダに転籍した個人現職側の“横断的結託”が疑われる点が特徴です。装置ベンダには以下の対応が求められます。

  • 機密区分の整合:ファウンドリ提供情報とベンダ自社情報の分類・隔離(閲覧権限と二要素の紐付けを個人単位に)。

  • 移籍者のクーリング:機微領域(プロセス統合、レシピ最適化)は一定期間の業務制限監査ログ強化を雇用契約に明記。

  • 持出し経路の遮断:社内/顧客先での撮影・画面転送・個人クラウドを技術・物理の二重で抑止。

  • 共同開発PJの監査誰が・いつ・どの図面/写真にアクセスしたかを追える不可改ざんログを共同管理。

 

一部参照

https://vip.udn.com/vip/story/122867/8946405

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